米マイクロンの設備投資額、21年度は90億ドル計画(LIMO)
【リンク先抜粋】
DRAMは現在、1Znm世代の立ち上げを進めており、LPDDR5のモバイル製品やGDDR6Xなどのグラフィックス製品に適用が進んでいる。次世代の1αプロセスは21年度中の立ち上げを目指しており、DRAM投資は同世代が中心案件となるもよう。
NANDはRG(Replacement Gate)方式の第1世代(128層)品の量産を20年度第3四半期から開始。RGベースの3D-NANDを適用したコンシューマーSSDの出荷を第4四半期から開始している。21年度はRG方式の第2世代品の立ち上げに資金を充当する考えだ。
後工程分野では20年度に主力拠点の中国・西安、台湾、シンガポールはそれぞれ過去最高の生産量を達成。同社は近年、後工程生産を従来のアウトソース主体から自社生産を中心とした体制へと移行を進めており、後工程分野への重点投資を進めている。21年度もこの流れを踏襲して、自社製品比率を高めていくことになりそうだ。